LIGENTECのシリコン窒化物(SiN)技術は、集積フォトニクスに基づく製品を具現化し、企業や研究機関が独自の設計を実現する手段を提供します。
LIGENTECは、プロセスエンジニアが運営するシリコン窒化物の独自製造技術によるファウンドリサービスを提供しています。
シリコン窒化物技術に加え、LIGENTECは高速度変調を可能にする薄膜ニオブ酸リチウム（TFLN）などの能動素子の統合開発にも注力しています。シリコン窒化物は光を制御する優れたプラットフォームであり、確立されたPDK（プロセスデザインキット）を使用します。
- 光伝搬損失 (<1dB/m in C-band)
- シングルモードファイバへの結合 (<1dB/facet)
- 熱的な位相チューニング (πシフト < 15 mW)
- 高閉じ込めリング共振器 (Qファクタ >20M)
- 200 mm, 自動車適合ファウンダリパートナー
- 統計的なプロセス制御
- ニオブ酸リチウム変調器 (LN)
- フォトダイオードの実装
- ゲイン材料
- その他
LIGENTECのプロセスは、非常に高い形状精度を持つ、最新鋭のコスト効率の高いプラットフォームです。
このプロセスには完全なPDK（L-edit、Calibre、Luceda、Synopsysで利用可能）が付属しており、DRCルール・ファイルや参照設計の検証済みシミュレーション・データが含まれています。
厚みのある導波路が示す顕著な特質は、その異常な分散特性と高い損傷耐性閾値にあります。これらの特性は、統合量子通信や、パルスレーザーを用いた導波路におけるスーパーコンティニューム生成、連続波レーザーからフェムト秒パルスを生成するマイクロ共振器の利用など、非線形光学応用において極めて重要です。
高いパワー閾値は、LIDARのようなアプリケーションにおいて導波路を通じてワット級のパワーを伝達可能にします。また、可視光領域での透明性は、シリコンナイトライド平面光子回路をマイクロフルイディクスやバイオセンシングの分野において魅力的な選択肢とします。
最初に、AN技術と名付けられたこの技術は、ナイトライド導波路内に90％以上のモードが保持されることに由来します。
この高いモード閉じ込めは、以下のような複数の利点を提供します：
AN技術は、光学応用のために特別に設計された二つのモジュラープロセスで提供されています。
LIGENTECは、可視光から中赤外光までの集積フォトニックチップを使用したフォトニックアプリケーションをターゲットとした独自の窒化ケイ素（Si3N4）プラットフォームを提供しています。SiNはSiとSiO2中間に位置する材料です。
LIGENTECは新しく高性能な材料を最新鋭のシリコンナイトライド・プラットフォーム上に集積する最先端の技術を開発しています。その一つが、SiN上への薄膜LN集積化です。Lithium Niobate On Insulator(LNOI)とも呼ばれます。最高のパッシブ・フォトニクス・プラットフォームと卓越した電気光学材料プラットフォームを組み合わせることで、フォトニクスの世界を変革するプラットフォームが誕生します。
LIGENTEC ANテクノロジーは、御社のLIDARシステムの基礎を提供します。
可視および近赤外領域における透明性と低損失伝搬により、窒化ケイ素（SiN）プラットフォームは、多くのバイオフォトニック・センシングおよびイメージング・アプリケーションにとって魅力的なものとなっています。
これらの分野は通常、高価で複雑、そしてしばしば大きく扱いにくい装置に依存しているため、集積フォトニクスはコスト削減をもたらすことができます。
LIGENTECはお客様やパートナーと共に、光のユニークな特性を利用して量子システムを構築しています。
LIGENTECの技術に基づく集積フォトニクスは、量子状態の生成、伝送、測定を、環境ノイズの影響を受けにくい単一パッケージのソリューションに組み込んでいます。
量子応用のためのANテクノロジー独自の特徴は以下の通りです。
