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ファウンドリ・MPW
設計データを、実チップに
フォトニクスファウンドリの選定から、PDKを用いた設計、MPW・Dedicated Runによる試作・製造まで支援します。シミュレーションと同じ窓口で、ご相談いただけます。
テクノロジープラットフォーム
材料プラットフォームから選ぶ
対象波長・素子構成・量産性の要件に応じて、プラットフォームをご提案します。詳細なプロセス仕様と現在のスケジュールは、各プラットフォームのページおよびお問い合わせでご案内します。
01
Silicon Photonics
変調器・受光器などの能動素子を含むPICに適したプラットフォームです。プロセス、MPWスケジュール、対応範囲はご要件に応じてご案内します。
PIC光トランシーバセンシング
02
Silicon Nitride
低損失で透明波長域が広いことが特長です。受動回路や可視から近赤外の用途で選ばれます。LIGENTECのSiNプラットフォームを対象にご相談いただけます。
低損失回路可視・近赤外バイオセンシング
03
Indium Phosphide
レーザやSOAなど発光・増幅素子をモノリシックに集積できるプラットフォームです。SMART PhotonicsのInPプラットフォームを対象にご相談いただけます。
レーザ集積能動デバイス光通信
提供方式
MPWとDedicated Runの使い分け
MPWは、複数のプロジェクトでひとつのウェハ・ランを共有する、標準プロセス条件での製造方式です。Dedicated Runは、標準のMPWの条件では要件を満たせない場合に、特定のプロジェクト向けに用意する専用製造ランです。
| MPW（マルチプロジェクトウェハ） | Dedicated Run | |
|---|---|---|
| 方式 | 複数プロジェクトでウェハを共有 | 特定プロジェクト向けの専用製造ラン |
| 向いている段階 | 試作・設計検証 | 標準のMPWで対応できない要件、専用条件での試作・製造 |
| プロセス | ファウンドリが定めるMPWプロセス・オプションの範囲内 | MPWで対応できない変更を検討可能 |
| スケジュール | プラットフォーム・Runにより異なります。お問い合わせください。 | 個別に調整します。 |
| 費用の考え方 | 複数プロジェクトで製造コストを分担 | 要件に応じて個別に確認・見積 |
日程・対応範囲・費用は、ファウンドリおよびプラットフォームごとに異なり、各ランで確定します。変更される場合があります。
設計から製造まで
提出までを、一緒に確認しながら進める
シミュレーションや設計で得たデータを活用しながら、PDK・デザインルールに沿って製造データを準備します。工程はプロジェクトにより異なり、要件に応じて適切な進め方を一緒に確認しながら進めます。
01
相談・要件整理
設計対象と要件の整理。
02
NDA・プラットフォーム選定
NDA締結と材料プラットフォームの選定。
03
PDK入手・設計
PDKに基づく設計とシミュレーション。
04
解析・レイアウト・検証
レイアウト作成とデザインルールの確認。
05
提出データ準備
GDSなど製造データの整理・検証。
06
設計データ確認
ファウンドリが提出データと必要事項を確認します。
07
製造・納品
各ランの日程に沿って製造・納品。
各工程の詳細と必要な提出物は、対象プラットフォームおよび参加するランによって異なります。
設計ワークフローとの連携
解析から、製造データの準備へ
Ansys Lumericalによる解析・シミュレーションと、Photonicaによるフォトニクス設計ワークフローを、製造準備へつなげます。製造段階では、対象ファウンドリのPDKやデザインルールに沿って設計データを確認し、GDSなどの製造データを準備します。
01
Ansys Lumerical
解析・シミュレーション
02
Photonica
フォトニクス設計ワークフロープラットフォーム
03
Foundry
試作・製造（MPW／Dedicated Run）
ソリューション
設計対象別のワークフロー
シリコンフォトニクス、SiNフォトニクス、InPフォトニクスなど、試作を含む設計ワークフローの全体像はソリューションで解説しています。
最終更新日
2026年8月28日
試作したい設計と、想定しているスケジュールをお聞かせください
プラットフォームの選定前でも構いません。ファウンドリプロジェクトについてご相談いただけます。