設計対象から、最適な解析・設計ワークフローへ

フォトニクスから光学システムまで、設計対象ごとに課題を整理し、必要な解析技術・製品・ワークフローをまとめています。

フォトニクス

光集積回路とフォトニックデバイスの設計・評価。素子単体の解析から回路・リンク全体の性能積み上げ、試作までを扱います。

結像・照明・センシング系の設計と評価。光学系の設計・最適化から、配光・視認性、性能の定量化までを扱います。

ソリューションの構成例

各ソリューションページは、課題の整理 → 要件 → ワークフロー → 該当する解析技術・製品、の順で構成します。メタレンズを例にすると次の流れです。

Lumerical RCWA（検証にFDTD）

Lumerical RCWA

Photonica

Photonica → GDS

Zemax OpticStudio

対応ファウンドリ／製造プロセス

設計対象によって、使う手法・製品・段階は変わります。メタレンズソリューションを見る

解析技術

FDTD・RCWA・FDE・半導体／電気解析・熱解析など、解析手法ごとの原理と使いどころ、対応製品を整理しています。

製品・解析ソフトウェア

Ansys Lumerical、Zemax OpticStudio、Ansys Speos、Photonicaなどを取り扱っています。

課題の整理の段階からで構いません。該当する解析の進めかたと製品をご説明します。