ホーム/ソリューション/InPフォトニクス

ソリューション | フォトニクス

InPフォトニクスの設計ワークフロー

InPは利得と増幅、吸収、受光を一つのプラットフォームで扱えます。設計はバンド構造から始まり、能動素子と受動導波路を同じチップの上で成立させることが課題になります。

設計課題

能動と受動を、同じ基板の上で成立させる

光利得は歪み多重量子井戸のキャリア占有から生まれるため、光学レイアウトを描く前に電子状態と利得・吸収のスペクトルを求める必要があります。同じエピ構造を発振器としても増幅器としても吸収体としても評価し、さらに受光素子と受動導波路を同じチップの上で成立させる。バンド構造から回路までを一続きにしておくことが前提になります。

要件 | 量子計算に基づく利得と吸収実際の井戸と障壁の構造から利得と吸収を計算し、定数で置き換えないこと
要件 | 能動素子の長手方向解析多電極、回折格子帰還、空間的ホールバーニングが現れる解法を使うこと
要件 | 熱と電気の帰還自己発熱とキャリア漏れを、同じ計算の中で利得に戻すこと

設計・シミュレーションワークフロー

バンド構造から、回路の中の能動素子まで

01

材料とエピ構造の定義

InPに格子整合する三元・四元混晶の光学定数を用意する。

02

光モードと閉じ込め

断面のモードから実効屈折率と閉じ込め係数を求める。

03

量子井戸の利得・吸収計算

バンド構造から利得と自然放出のスペクトルを求める。

04

キャリアと熱の解析

注入と輸送、自己発熱を解いて活性領域の状態を求める。

05

能動素子の長手方向解析

発振器・増幅器・吸収体としての振る舞いを求める。

06

受光と回路への統合

受光素子を含めてモデル化し、回路の中に置く。

工程はプロジェクトにより異なります。レーザだけでなく、増幅器・変調器・受光素子も同じ流れに乗ります。

関連製品

各工程で使用する製品

製品ごとの機能と対応範囲は、それぞれの製品ページに記載しています。

Lumerical MODE

光モードと閉じ込めの解析を担います。FDEで、断面の実効屈折率と閉じ込め係数を求めます。

対応工程 / 02

Lumerical マルチフィジックス

利得・吸収、キャリア、熱の解析を担います。MQW、CHARGE、HEAT、FEEMを連成して解きます。

対応工程 / 02-04、06

Lumerical INTERCONNECT

能動素子の長手方向解析と回路への統合を担います。進行波モデルで、発振器・増幅器・吸収体としての振る舞いを求めます。

対応工程 / 05-06

Lumerical CML Compiler

コンパクトモデル化を担います。抽出結果を、回路解析で使えるモデルライブラリとして整備します。

対応工程 / 06

ファウンドリ・製造

設計データを製造につなぐ

エピ構造と能動素子の仕様が固まった段階で、InPプラットフォームでの試作に進みます。エピ構造は製造プロセスと密接に結び付くため、設計が前提としている層構造と組成が対象のプロセスで実現できるかを、受け渡しの前に確認します。

対応可能なプロセスと試作形態は、対象とするエピ構造とデバイス仕様をもとに個別に判断します。

エピ構造と対象デバイスから、ご相談ください

設計の現在地(量子井戸構造の有無、発振器・増幅器・受光素子のどれが対象か、実測データの有無)をお知らせいただければ、適切な進め方をご提案します。